Monsieur Alexandre VAUSELLE / Docteur

Coordonnées

Expérience professionnelle

Domaine d'activité : Nanotechnologie

Type de contrat : Entreprises

Fonction exercée : Ingénieur Process Intégration

Organisme de rattachement ou entreprise : STMicroelectronics

Site internet de l'entreprise : www.st.com

Taille de l'entreprise : 2000

Ville : Rousset cedex

Pays : FRANCE

Emplois

Informations complémentaires : Sport : Handball

Recherche : NON

Compétences

Outils Informatiques : Windows, Linux, MS Office

Techniques maîtrisées

Scientifiques : Métrologie optique, Transfert Thermiques, Mécanique, Matériaux Modélisation / Programmation : Comsol, Cast3M, Matlab, Visual Basic, Labview Dessin technique : Autocad

Doctorat

Titre : PHYSIQUE & SCIENCES DE LA MATIERE - Spécialité : OPTIQUE, PHOTONIQUE ET TRAITEMENT D'IMAGE

1ère inscription en thèse : 1 février 2010 / 4A

Ecole doctorale : Physique et Sciences de la Matière

Date de soutenance de thèse : 19 décembre 2013

Sujet : Métrologie des dimensions critiques : Scattérométrie et développements avancés

Directeur de thèse : DEUMIE Carole

Co-directeur : GEORGES Gaëlle

Unité de recherche : Institut FRESNEL - Sciences et Technologies de l'Optique, l'Electromagnétisme, et l'Image

Master

Titre : Diplôme d'Ingénieur de l'Ecole Polytechnique de l'Université de Nantes

septembre 2008 - Ecole Polytechnique de l'Université de Nantes

Production scientifique

  • Roughness influence on periodic gratings and application to optical metrology of roughness
    Proceeding SPIE, 2010
    Alexandre Vauselle Institut Fresnel, CNRS, Aix-Marseille Univ. (France) and STMicroelectronics (France) Laurent Arnaud, Gaëlle Georges, Claude Amra, and Carole Deumié Institut Fresnel, CNRS, Aix-Marseille Univ. (France) Philippe Maillot STMicroelectronics (France)
    http://spiedl.aip.org/getabs/servlet/GetabsServlet?prog=normal&id=PSISDG00779200000177920W000001&idtype=cvips&gifs=yes&ref=no
  • Optical far field measurements applied to microroughness determination of periodic microelectronic structures
    Proceeding SPIE : Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography XXV, 2011
    Alexandre Vauselle; Philippe Maillot; Gaëlle Georges; Carole Deumié
    http://spie.org/x648.html?product_id=879436
  • Micro Roughness Determination Of Periodic Microelectronics Structures Using Optical Far Field Measurements
    AIP Conference Proceedings, 2011
    Alexandre Vauselle, Philippe Maillot, Gaëlle Georges, and Carole Deumié
    http://dx.doi.org/10.1063/1.3657909
  • Feasablility studies for speckle interferometry used to measure deformation in nuclear fuel cladding
    Nuclear Technology, 2012
    Vauselle A., Pontillon Y., Gallais L.
    http://www.new.ans.org/pubs/journals/nt/a_13372
  • Feasibility Studies for Speckle Interferometry Used to Measure Deformation in Nuclear Fuel Cladding
    Nuclear Technology, 2012
    Alexandre Vauselle, Yves Pontillon, Laurent Gallais
    http://www.new.ans.org/pubs/journals/nt/a_13372

Langues

Anglais : C1 - Avancé