Monsieur Roger DELATTRE / Docteur

Coordonnées

Expérience professionnelle

Emplois

Disponibilité : 2 2013

Mobilité géographique : Tous les pays

Recherche : OUI

Doctorat

Titre : SCIENCES DES MATERIAUX, PHYSIQUE, CHIMIE ET NANOSCIENCES

1ère inscription en thèse : 1 octobre 2009 / 4A

Ecole doctorale : Physique et Sciences de la Matière

Date de soutenance de thèse : 26 avril 2013

Sujet : Etude et simulation de la siliciuration du cobalt en couches minces pour la microélectronique : cinétique de formation, contraintes, texture et redistribution des dopants

Directeur de thèse : THOMAS Olivier

Co-directeur : PERRIN-PELLEGRINO Carine

Unité de recherche : IM2NP - Institut Matériaux Microélectronique Nanosciences de Provence

Master

Titre : Micro et nanotechnologies

septembre 2009 - Université Paris Sud XI

Production scientifique

  • In-situ study and modeling of the decreasing reaction rate at the end of CoSi2 formation
    Interconnect Technology Conference and 2011 Materials for Advanced Metallization (IITC/MAM), 2011 IEEE International, 2011
    R. Delattre, R. Simola, C. Rivero, C. Perrin-Pellegrino, O. Thomas
    http://dx.doi.org/10.1109/IITC.2011.5940309
  • CoSi2 ultra-thin layer formation kinetics and texture from X-ray diffraction
    Thin Solid Films, 2012
    R. Delattre, R. Simola, C. Rivero, C. Perrin-Pellegrino, O. Thomas
    http://dx.doi.org/10.1016/j.tsf.2012.10.128
  • Decreasing reaction rate at the end of silicidation : in-situ CoSi2 XRD study and modeling
    Microelectronic Engineering, 2013
    R. Delattre, R. Simola, C. Rivero, C. Perrin-Pellegrino, O. Thomas
    http://dx.doi.org/10.1016/j.mee.2013.01.003

Langues

Anglais : C1 - Avancé

Portugais : C2 - Courant