Coordonnées
Doctorat
Intitulé : PHYSIQUE & SCIENCES DE LA MATIERE - Spécialité : MATIERE CONDENSEE et NANOSCIENCES
1ère inscription en thèse :
Décembre 2013
École doctorale :
Physique et Sciences de la Matière
Date de soutenance de la thèse :
5 Décembre 2016
Sujet :
Développement de procédés d'épitaxie basse température pour les technologies CMOS FDSOI avancées
Directeur de thèse :
Pierre MULLER
Co-directeur :
Fabien CHEYNIS
Unité de recherche :
CINaM - Centre Interdisciplinaire de Nanoscience de Marseille
Intitulé de l'équipe :
Master
Intitulé : MASTER SCIENCES ET TECHNOLOGIES Mention Microelectronique & Nanoelectronique (MINELEC)
Septembre 2013 - Aix Marseille Université
Mention : Très Bien
Langues vivantes
Anglais : C1 - Avancé
Espagnol : A1 - Débutant
Production scientifique
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LOW THERMAL BUDGET FOR SI AND SIGE SURFACE PREPARATION FOR FD-SOI TECHNOLOGY
Applied Surface Science
2016
M. Labrot, F.Cheynis, D.Barge, P.Müller, M.Juhel
http://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S0169433216304159
-
Improvement of Boron Doping in SiGe Raised Sources and Drains for FD-SOI Technology by Carbon Incorporation
IEEE
2016
M. Labrot, F. Cheynis, D. Barge, M. Juhel, P. Müller
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Integration of Low Temperature SiGe:B Raised Sources and Drains in p-Type FDSOI Field Effect Transistors
IEEE
2016
C. M. V. Lu (CEA-Leti Minatec Campus, STMicroelectronics), C. Fenouillet-Beranger (CEA-Leti Minatec Campus), J. M. Hartmann (Univ. Grenoble Alpes, CEA-LETI, MINATEC Campus, CEA, LETI), P. Rodriguez (CEA, LETI, MINATEC Campus), V. Benevent (CEA, LETI, Grenoble, France), M. P. Samson (STMicroelectronics, Crolles, France), B. Previtali (CEA-LETI MINATEC Campus), C. Tabone, M. Cassé (Univ. Grenoble Alpes, CEA-LETI, MINATEC Campus), F. Allain, G. Romano (CEA-Leti Minatec Campus), L. Brunet (CEA-LETI MINATEC Campus), P. Batude (CEA, LETI, MINATEC Campus), T. Skotnicki (STMicroelectronics), and M. Vinet (Univ. Grenoble Alpes, CEA-LETI, MINATEC Campus), M. Labrot (STMicroelectronics, Crolles, France).
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IMPROVEMENT OF ETCHING AND CLEANING METHODS FOR INTEGRATION OF
RAISED SOURCE AND DRAIN IN FD-SOI TECHNOLOGIES
Microelectronic Engineering - Elsevier
2016
M. Labrot, F.Cheynis, D.Barge, P.Maury, M.Juhel, S.Lagrasta, P.Müller