Coordonnées
Techniques maîtrisées
Process intégration semi-conducteur:
- flux de procédé industriel CMOS
- outils de procédé de diffusion, de photolithographie et de métrologie.
- Physique des matériaux semi-conducteurs
- caractérisation physique (SEM,AFM,...)
- caractérisation électrique
connaissances logicielles:
- traitement d'image
- outil de gestion de procédés industriels: KLA Ace, Workstream,
Compétences
- Outils Informatiques : Proteus, Microwind, Cadence, Matlab, Mathcad, Mathématica, Emacs, ImageJ, LateX...
- Outils Informatiques Industriels: KLA Ace, Workstream,
Doctorat
Intitulé : Micro et Nanoélectronique
1ère inscription en thèse :
Janvier 2010
École doctorale :
SCIENCES POUR L'INGENIEUR : Mécanique, Physique, Micro et Nanoélectronique
Date de soutenance de la thèse :
29 Novembre 2013
Sujet :
Optimisation des procédés de croissance nanocristaux de Silicium pour intégration dans les mémoires non volatiles
Directeur de thèse :
Ludovic ESCOUBAS
Co-directeur :
Damien DELERUYELLE
Unité de recherche :
IM2NP - INSTITUT MATERIAUX MICROELECTRONIQUE NANOSCIENCES DE PROVENCE
Intitulé de l'équipe :
Master
Intitulé : MINELEC Recherche
Octobre 2009 - Université Paul Cézanne Aix Marseille 3
Mention : Bien
Langues vivantes
Espagnol : Notion
Anglais : Moyen
