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Techniques maîtrisées

HRTEM STEM-HAADF APT

Doctorat

Intitulé : PHYSIQUE & SCIENCES DE LA MATIERE - Spécialité : MATIERE CONDENSEE et NANOSCIENCES
1ère inscription en thèse : Décembre 2010
École doctorale : Physique et Sciences de la Matière
Date de soutenance de la thèse : 31 Janvier 2014
Sujet : Étude de la ségrégation des contaminants métalliques dans le Silicium, aux interfaces des structures des technologies CMOS
Directeur de thèse : Alain PORTAVOCE
Co-directeur :
Unité de recherche : IM2NP - Institut Matériaux Microélectronique Nanosciences de Provence
Intitulé de l'équipe :

Master

Intitulé : Master 2 MINELEC
Septembre 2010 - Faculté des sciences et techniques de St Jérôme
Mention : Bien

Langues vivantes

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Production scientifique

  • Direct epitaxial growth of -Ni2Si by reaction of thin Ni(10 at.%Pt) film with Si(100) substrate
    Scripta Materialia 0
    F. Panciera, D. Mangelinck, K.Hoummada, M.Texier, M.Bertoglio, A. De Luca, M.Gregoire and M. Juhel
  • Evidence of perfect dislocations’glide in nanoindented 4H-SiC
    Journal of Physics: Conference Series 0
    M. Texier, A. De Luca, B. Pichaud, M. Jublot, C. Tromas, J.L. Demenet and J. Rabier
  • Dynamic segregation of metallic impurities at SiO2 /Si interfaces
    Journal of Physics: Conference Series 0
    A. De Luca, A. Portavoce, M. Texier, N. Burle and B. Pichaud
  • Tungsten diffusion in silicon
    Journal of Applied Physics 0
    A. De Luca, A. Portavoce, M. Texier, C. Grosjean, N. Burle, V. Oison and B. Pichaud