Monsieur Thomas MICHEL / Docteur

Coordonnées

Type de contrat : Entreprises

Fonction exercée : Ingénieur R&D

Organisme de rattachement ou entreprise : Ion Beam Services

Taille de l'entreprise : 50-99

Ville : Peynier

Pays : FRANCE

Recherche : NON

Semiconducteur, Photovoltaïque

Titre : PHYSIQUE & SCIENCES DE LA MATIERE - Spécialité : MATIERE CONDENSEE et NANOSCIENCES

1ère inscription en thèse : 1 janvier 2010 / 4A

Ecole doctorale : Physique et Sciences de la Matière

Date de soutenance de thèse : 5 juin 2013

Sujet : Développement de procédés d'implantation ionique par immersion plasma pour le photovoltaïque

Directeur de thèse : COMMANDRE Mireille

Co-directeur :

Unité de recherche : Institut FRESNEL - Sciences et Technologies de l'Optique, l'Electromagnétisme, et l'Image

Titre : Microélectonique et Nanoélectronique

septembre 2009 - MINELEC, UPCAM

Mention : Bien

Plasma Immersion Ion Implantation of Boron for Ribbon Silicon Solar Cells
EPJ Photovoltaics, 2013
K. Derbouz, T. Michel, F. De Moro, Y. Spiegel, F. Torregrosa, C. Belouet, A. Slaoui
Gettering of metal impurities in multicrystalline silicon by H-plasma immersion ion implantation
Applied Physics Letters, 2013
E.A. Kouadri, E. Ntsoenzok, R. Benoit, G. Regula, H. Etienne, T. Michel, S. Ashok

Anglais : C2 - Courant