Monsieur Anthony DE LUCA / PhD

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Comments on availability : Soutenance fin janvier 2014

Availability : 12 2013

Research : OUI

HRTEM STEM-HAADF APT

Title : PHYSIQUE & SCIENCES DE LA MATIERE - Spécialité : MATIERE CONDENSEE et NANOSCIENCES

First registration date : 1 December 2010 / 4A

Doctoral school : Physique et Sciences de la Matière

Thesis defense date : 31 January 2014

Subject : Étude de la ségrégation des contaminants métalliques dans le Silicium, aux interfaces des structures des technologies CMOS

Thesis supervisor : PORTAVOCE Alain

Thesis co-supervisor :

Research unit : IM2NP - Institut Matériaux Microélectronique Nanosciences de Provence

Title : Master 2 MINELEC

September 2010 - Faculté des sciences et techniques de St Jérôme

Mention : Bien

Direct epitaxial growth of -Ni2Si by reaction of thin Ni(10 at.%Pt) film with Si(100) substrate
Scripta Materialia, 0
F. Panciera, D. Mangelinck, K.Hoummada, M.Texier, M.Bertoglio, A. De Luca, M.Gregoire and M. Juhel
Evidence of perfect dislocations'glide in nanoindented 4H-SiC
Journal of Physics: Conference Series, 0
M. Texier, A. De Luca, B. Pichaud, M. Jublot, C. Tromas, J.L. Demenet and J. Rabier
Dynamic segregation of metallic impurities at SiO2 /Si interfaces
Journal of Physics: Conference Series, 0
A. De Luca, A. Portavoce, M. Texier, N. Burle and B. Pichaud
Tungsten diffusion in silicon
Journal of Applied Physics, 0
A. De Luca, A. Portavoce, M. Texier, C. Grosjean, N. Burle, V. Oison and B. Pichaud

Anglais : C1 - Avancé