Monsieur Abdelmalek BENKOUIDER / PhD

L'objectif de cette thèse est de développer deux types de procédés de fabrication : les premiers « top-down » seront basés sur la nanogravure directe par faisceau d'ions focalisés (FIB). Ces procédés devront permettre de contrôler la taille des NFs, les déformations, et leur localisation précise. Ce procédé (descendant), basé sur la gravure de couches 2D de SiGe permettra de fabriquer des réseaux de larges piliers. Les NFs réalisés par ces techniques seront peu denses et de diamètre important. Les seconds procédés seront de type « Bottom-Up » ; ils s'appuieront sur la croissance à partir de catalyseurs métalliques (AuSi). Les NFs réalisés seront étudiés à l'échelle locale et permettront de mettre en évidence les effets de taille et de contrainte sur le confinement quantique et sur la structure de bande des NFs.