Soutenance de thèse de IMENE GUELLIL

Compléter la compréhension des relations structure-composition-processus des matériaux pour des applications innovantes, qui repose principalement sur l'imagerie et l'analyse à petite échelle, est la principale raison du défi que représente le développement de nouveaux outils avancés en perfectionnant le micro- et nano-usinage précis dans la science des matériaux et les industries des semi-conducteurs. Le système de faisceau d'ions focalisé (FIB) est mentionné comme un outil important qui a pris sa place parmi la série d'autres instruments, car il a relevé avec succès les défis liés aux matériaux, et promet toujours de répondre aux demandes continues à l'échelle nanométrique communément dans les laboratoires d'analyse et de médecine légale, les universités, les institutions de recherche géologique, médicale et biologique, les usines de fabrication, etc. En outre, un système à faisceau d'ions focalisé combine des capacités d'imagerie comme celles d'un microscope électronique à balayage (MEB) avec un outil d'usinage de précision. En outre, son utilité ne se limite pas à la préparation de spécimens pour l'observation par MET, mais aussi pour d'autres techniques analytiques, de nombreux dépôts directs à l'échelle micro et nanométrique, ou l'enlèvement de matériaux n'importe où sur une surface solide. Face à la complexité de l'élaboration et de la caractérisation des nanostructures des nouveaux matériaux et des semi-conducteurs, un grand intérêt a été porté à l'exploration de technologies FIB plus puissantes, telles que les systèmes FIB à double faisceau, qui offrent un large éventail d'autres capacités qui seraient expliquées.

To complete the understanding of the structure-composition-process relationships of materials for innovative applications, which relies mainly on small-scale imaging and analysis, is the main reason for the challenge of developing new advanced tools by perfecting the precise micro- and nano-machining in materials science and semiconductor industries. the Focused Ion Beam (FIB) system is mentioned as an important tool that has taken its place among the suite of other instruments, since it has successfully addressed materials challenges, and still promises to meet the continuing demands at the nanoscale commonly in analytical and forensic laboratories, universities, geological, medical, and biological research institutions, manufacturing plants, and more. Moreover, a focused ion beam system combines imaging capabilities like those of a scanning electron microscope (SEM) with a precision machining tool. Besides its utility is not limited to the specimen preparation for TEM observation, but also for other analytical techniques, numerous direct micro- and nano-scale deposition, or materials removal anywhere on a solid surface. Facing to the complexity of both new materials and semiconductors nanostructures elaboration and characterization, there has been a great interest to explore more powerful FIBs technologies such as the Dual-Beam FIB systems that offer a wide range of other capabilities that would be explained.